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工藝

TYTAN

TYTAN 爐系統是專為氧化, 擴散和低 壓化學氣相沉積應用而設計的。與其它相同 產能的常規爐系統相比,它具有結構緊湊, 占地空間小和省電等優勢

關鍵設計和性能特點

創新性熱能設計

占地空間小

優良的工藝均勻性

設備開機率優于95%

龐大的客戶網絡

專家服務

節?。?0%)電能和氣體消耗

便于保養和服務

TYTAN爐系統對照表

 

適用工藝

常壓工藝

氧化工藝(濕法,干法)

固態源擴散(BN,P2O5

液態源擴散(POCl3,BBr3

退火

納米材料

燒結+合金

低壓化學氣相沉積和工藝

摻雜多晶硅和非晶硅 LPCVD

多晶硅 LPCVD(使用硅烷或乙硅烷)

低溫氧化硅,摻雜性低溫氧化硅,硼磷硅玻璃,硼硅玻璃和磷硅玻璃LPCVD

高溫氧化硅LPCVD

TEOS氧化硅LPCVD

氮化硅LPCVD(低應力型,標準型)

鍺(Si-Ge)LPCVD

摻氧半絕緣多晶硅,碳化硅

外延硅

納米材料LPCVD

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