魂斗罗归来缇娜壁纸:法國Annealsys公司介紹

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    Annealsys 是2004年5月成立于法國南部蒙彼利埃的民營企業,企業股東均為真空快速退火爐及化學氣相沉積方面的專家。所生產設備專門為研發、質量控制和部分生產應用提供解決方案。

 

【我們的理念】
同客戶建立長期良好關系
提供可靠、高質量設備
確保低使用成本
提供良好的支持和服務
為此,我們已經在世界范圍內建立廣泛的客戶服務網絡

【主要產品】
Rapid Thermal Processing(RTP) 快速退火爐
Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition(RTCVD) 快速化學氣相沉積設備
Direct Liquid Injection chemical vapor deposition (DLI-CVD) 直接液體注射化學氣相沉積設備
Direct Liquid Injection Atomic Layer Deposition (DLI-ALD) 直接液體注射原子層沉積設備

 

   快速熱退火爐設備在半導體、MEMS、納米技術、硅、太陽能電池、玻璃、光伏光電等行業中有著重要的應用。設備可廣泛應用于:接觸退火,注入退火,RTO (快速熱氧化),RTN (快速熱氮化),硅平滑,擴散,致密化和結晶化,硒化,硫化等。

 

    適用大范圍類型的基片:硅和化合物半導體晶圓,GaN /藍寶石和碳化硅晶圓,多晶硅晶圓,玻璃,金屬,高分子聚合物,石墨和碳化硅托盤等。

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